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大连维钛克V-Tech SE1400代替电镀超厚PVD镀膜设备

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-07-02  浏览次数:0
核心提示:表面处理网讯: 大连维钛克采用自主研发的Φ155mm双磁场过滤阴极弧真空镀膜技术,经过多年的共同研发,成功研制出适用于机械零部
表面处理网讯:

大连维钛克采用自主研发的Φ155mm双磁场过滤阴极弧真空镀膜技术,经过多年的共同研发,成功研制出适用于机械零部件及发动机涡轮叶片等要求涂层超厚(40-60μm)、硬度高、耐磨性好和屏蔽热量等特点的专用设备和成熟工艺。

PVD CrN涂层特性

●提供超厚涂层

●很好的硬度和耐磨性

●清洁涂层,保护环境

V-Tech SE1400

公司简介

大连维钛克科技股份有限公司(维钛克),股改于2014年5月,前身是成立于2003的大连远东真空技术有限公司,隶属于大连远东企业集团,专业从事各种真空离子镀膜设备的研发、制造与销售及镀膜服务的高新技术企业。公司拥有从真空腔室的制造到设备的安装调试完整的现代化数控加工设备和检测仪器,利用多项独有专利技术,确保设备各项性能的自主控制,提供全方位的镀膜交钥匙工程。

经过10余年的科研与开发,本公司在磁过滤电弧放电蒸发离子源,大电流大密度溅射离子源及离子清洗辅助沉积源等方面都有独特的建树和自主知识产权。我公司生产的离子镀膜设备广泛应用于工业级工具、模具表面超硬离子涂层,替代电镀的高档装饰涂层,机械零部件(如汽车零部件,航空及燃气轮机等)的耐腐蚀和高强度涂层,LED新节能发光体涂层,ITO导电膜涂层,太阳光热发电集热管涂层及薄膜硅半导体光浮玻璃涂层等。我们研发中心和多所著名大学材料试验室建立稳固的合作关系,为设备和工艺的不断改进提供了有力的保障。尤其在硬质高强度耐磨性膜系和超厚(可达到50-80微米)膜系方面,我们一直引领市场发展,不断更新技术,满足客户及市场需求。

我们去年研制成功的155mm双磁场驱动超大沉积速率阴极弧源,填补了国内空白,为公司未来进军世界一流设备市场提供了坚实的保障。

网址链接:http://ydzk.b2b.hc360.com/

 
 
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